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VTC-16PW小型粉末PVD包覆系统

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产品名称: VTC-16PW小型粉末PVD包覆系统
产品型号:
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简单介绍

小型粉末PVD包覆系统VTC-16PW是一款小型粉末包覆系统,主要有2英寸磁控溅射头和振动样品台组成。粉末在振动样品台上振动翻滚,通过溅射在粉末表面进行包覆形成核壳结构。直流磁控溅射适合粉体表面包覆金属材料.射频磁控溅射适合材料表面包覆非金属材料或碳。(更新日期2019.1.10)


VTC-16PW小型粉末PVD包覆系统  的详细介绍

 

产品型号

小型粉末PVD包覆系统VTC-16PW

产品特点

1、可对粉体材料进行表面包覆:采用磁控溅射,溅射时粉体材料在振动样品台上翻滚,达到粉体表面均匀包覆

2、设备小巧可在手套箱内使用,可处理样敏感性材料

技术参数

1、输入电压:220 VAC 50/60Hz

2、电源输出:1600 VDC 250 W

3、*大电流:150 mA .

4、溅射头:2英寸角度可调节溅射头

5、振动样品台:

样品台振动频率可调节:6-33Hz

样品台直径为50mm

建议样品量: < 500 mg

建议颗粒尺寸: 1 ~ 1000um

石英腔体尺寸:165 mm OD. X 150 mm ID x 250 mm H

6、真空度:

①1.0E-2 Torr(采用机械泵),可溅射Au, Ag, Pt, Cu, Mo等靶

② 1.0E-5 Torr(采用分子泵),可溅射Al, Mg, Li, Lr, Ti, Zn等易氧化金属靶*大真空度可达到< 4.0E-6 Torr(分子泵系统抽时间12小时,腔体进行烘烤)

7、CE认证

产品规格

外形尺寸:长460×宽330×高810mm  净重:20Kg

注意事项

警告:

1、溅射头与高压电源相连接,操作时必须佩带防护手套

2、溅射前必须确保靶材,溅射头,基片和样品台清洁,需要用砂纸和乙醇来清洗,Al或是Ni靶每次使用时都必须清洗和处理

注意:粉末样品必须干燥和分散

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