产品资料

VTC-16-D小型直流磁控等离子溅射仪

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产品名称: VTC-16-D小型直流磁控等离子溅射仪
产品型号: VTC-16-D
产品展商: 沈阳科晶
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简单介绍

VTC-16-D小型直流磁控等离子溅射仪靶头尺寸为2英寸,样品台与溅射头之间的高度在30-80mm之间可以调节。安装有一可手动操作的溅射挡板,可进行预溅射。溅射头对样品的溅射时间在1-120s之间可调,若想获得薄的薄膜,溅射时间可以设置短一点;若想获得厚的薄膜,溅射时间可以长一点。VTC-16-D小型直流磁控等离子溅射仪设计主要是制作一些金属薄膜,制膜面积可达到4英寸。设备外形小巧,性价比高,是制作各种金属薄膜理想的镀膜设备,可选配各种金属靶材和真空泵搭配设备使用。


VTC-16-D小型直流磁控等离子溅射仪  的详细介绍

产品名称

VTC-16-D小型直流磁控等离子溅射仪

产品型号

VTC-16-D

 

主要特点

1、特别为SEM样品镀导电性薄膜设计。

2、体积小巧,操作简单,容易上手。

3、拥有小型磁控靶头,可以镀金银铂等金属。

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

技术参数

1、输入电源:220V AC 50/60Hz

2、功率:200W

3、输出电压:500 VDC

4、溅射电流:0-50 mA可调

5、溅射时间:0-120S可调

6、溅射腔体

1)采用石英腔体,尺寸:166 mm OD x 150 mm ID x 150 mm H

2)密封:采用不锈钢平法兰的O形密封圈

7、溅射头&样品台

l)溅射头可安装靶材直径为2英寸,厚度0.1 - 2.5mm

      2)溅射时间1-120S可调

3)仪器中安装有直径为50mm的不锈钢样品台,其与溅射头之间距离30-80mm可调。

      4)可选购加热型样品台,其加热温度可达500℃

      5)安装有一可手动操作的溅射挡板,可进行预溅射

6)制膜的直径可达:4英寸(仅供参考,详情请点击)