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TFMS-LD反射光谱薄膜测厚仪

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产品名称: TFMS-LD反射光谱薄膜测厚仪
产品型号:
产品展商: 沈阳科晶
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简单介绍

TFMS-LD反射光谱薄膜测厚仪是一款利用反射光谱测试薄膜厚度的仪器,可快速精 确地测量透明或半透明薄膜的厚度而不损伤样品表面的薄膜,是一款无损测厚仪,其测量膜厚范围为15nm-50um,测量膜厚范围广,尤其适用于超薄薄膜厚度的测量。仪器所发出测试光的波长范围为400nm-1100nm,波长范围广,因此,测试薄膜厚度的范围广。TFMS-LD反射光谱薄膜测厚仪测试系统的理论基础为镜面光纤反射探头,该仪器仪尺寸小巧可节省实验室空间,操作方便,读数直观,方便于在实验室中摆放和使用。


TFMS-LD反射光谱薄膜测厚仪  的详细介绍

产品名称

  TFMS-LD反射光谱薄膜测厚仪

产品型号

TFMS-LD

测量膜厚范围

15nm-50um

光谱波长

400 nm - 1100 nm

主要测量透明或半透明薄膜厚度

氧化物

氮化物

光刻胶

半导体(硅,单晶硅,多晶硅等)

半导体化合物(ALGaAs,InGaAs,CdTe,CIGS等)

硬涂层(碳化硅,类金刚石炭)

聚合物涂层(聚对二甲苯,聚甲基丙烯酸甲酯,聚酰胺)

金属膜

        

特点

测量和数据分析同时进行,可测量单层膜,多层膜,无基底和非均匀膜

包含了500多种材料的光学常数,新材料参数也可很容易地添加,支持多重算法:Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等

体积较小,方便摆放和操作

可测量薄膜厚度,材料光学常数和表面粗糙度

使用电脑操作,界面中点击,即可进行测量和分析

精度

0.01nm或0.01%

准确度

0.2%或1nm

稳定性

0.02nm或0.02%

光斑尺寸

标准3mm,可以小至3um

要求样品大小

大于1mm

分光仪/检测器

400 - 1100 nm 波长范围

光谱分辨率: < 1 nm

电源 100 -250 VAC, 50/60 Hz 20W

光源

5W的钨卤素灯

色温:2800K

使用寿命:1000小时

反射探针

光学纤维探针,400um纤维芯

配有分光仪和光源支架

载样台

测量时用于放置测量的样品

通讯接口

USB接口,方便与电脑对接

TFCompanion软件

强大的数据库包含两500多种材料的光学常数(n:折射率,K:消失系数)

误差分析和模拟系统,保证在不同环境下对样品测量的准确性

可分析简单和复杂的膜系

设备尺寸

200x250x100mm

重量

4.5kg

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