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OTF-1200X-4-RTP-HV 4″高真空RTP炉

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产品名称: OTF-1200X-4-RTP-HV 4″高真空RTP炉
产品型号:
产品展商: 沈阳科晶
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简单介绍

OTF-1200X-4-RTP-HV 4″高真空RTP炉是一款精巧型快速热处理管式炉,配有4″石英管及高真空系统(机械泵+分子泵), 是专为半导体或太阳能电池基片(≤3″)的退火而设计。OTF-1200X-4-RTP-HV 4″高真空RTP炉采用10KW红外灯管加热,升温速度为50℃/s,设有30 段温度控制,精度为±1℃。此外,通过RS485口和控制软件可在计算机上实现实时控制和温度曲线显示。


OTF-1200X-4-RTP-HV 4″高真空RTP炉  的详细介绍
 

控温仪表操作视频

产品型号

4高真空RTPOTF-1200X-4-RTP-HV

主要特点

1、石英样品架固定在滑动法兰上,使样品装载更加容易。

2样品架上放置76mmAlN片,承载需要退火的样品AIN具有很高的热导率,可使样品放置的区域有很  好的温度均匀性(± 5℃)。

3内插式热偶保证了温度的准确性

4、采用PID自动温度控制,30段程序,并设有过热和断偶保护功能。

5、已通过CE认证。

技术参数

1源:炉体单相208-240V50/60Hz10KW;高真空系统AC110V/220V任意切换,50/60Hz110W

2、炉体结构:双层莫来石钢构

3、石英管:外径Φ110mm,内径Φ103mm,长380mm

4、样品架:76mm

5、加热元件:8根红外灯管,灯丝长200mm,丝圈Φ10mm,灯长300mm

6加热区102mm×305mm,均匀性±5

7、热偶:K型热偶

8、温度:温度≤1100℃,额定温度1000℃,在1000-1100℃下保温时间不得超过600s

9、控温精度:±0.5

10、*快升温速度:RT-800℃内50/s800-1000℃内10/s

11、高真空系统气动时间:2min

12、真空度:6.3×10-5mbar(在40min中)

13真空法兰:KF-D25配有两个高温O型圈密封

14、流量计:16-160ml/min

15、前级泵流速:在10mbar状态下3.8L/min50Hz4.4L/min60Hz

产品规格

炉体:尺寸760mm×330mm×530mm重量50kg

高真空系统:尺寸:600mm×600mm×700mm,重量18kg


 

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